大型仪器风采展示

4D超快透射电子显微镜

简介：4D超快透射电子显微镜集飞秒激光和透射电子显微镜为一体，结合了飞秒激光的飞秒时间分辨率和透射电子显微镜的原子空间分辨率，可进行超高时间和空间分辨的成像、微区衍射以及能谱分析，可广泛应用于超高时空分辨的物质原子结构演变、化学价态变化、电荷转移、电-声子相互作用、电-光子相互作用等动力学研究。

规格型号：Talos Femto 200i

主要技术参数：

加速电压：80-200 kV；空间分辨率：0.2 nm；时间分辨率：<650 fs；能量分辨率：<0.7 eV；GIF Continuum EELS；K3、One View IS相机；STEM、DPC成像模式；Lorentz、Holography；电/热/冷/气/液样品杆。

仪器负责人：付学文

超快扫描电镜/超快阴极荧光系统

简介：超快扫描电镜/超快阴极荧光系统集飞秒激光、扫描电子显微镜和瞬态阴极荧光探测系统为一体，结合了飞秒激光的飞秒时间分辨率和扫描电子显微镜的纳米空间分辨率，可进行超高时间和空间分辨的扫描二次电子成像、背散射电子衍射和阴极荧光探测。其中阴极荧光含波长分辨、角分辨和时间分辨测量模式。该联合系统可广泛应用于高时空分辨的载流子和激子动力学以及表面等离激元发光动力学研究。

规格型号：Quatro S + Horiba CL

主要技术参数：

SEM加速电压：1-30 kV；SEM图像空间分辨率：0.8 nm；SEM图像时间分辨率：<700 fs；EBSD衍射时间分辨率：<700 fs；CL光谱时间分辨率： <10 ps；CL光谱响应范围：200-950 nm。

仪器负责人：付学文

微区瞬态吸收光谱系统

简介：瞬态吸收光谱系统是利用飞秒激光的飞秒时间分辨率，利用一束飞秒激光激发样品产生动力学激发，利用另一束同步的飞秒激光对样品进行动力学探测，包含透射谱和反射谱两种动力学探测模式。该装置为半自主设计搭建系统，可广泛应用于物质的能量转移、电荷转移、载流子和激子动力学研究。

规格型号：Spirit 飞秒激光+ HARPIA瞬态光谱系统

主要技术参数：

飞秒激光脉宽：<300 fs；飞秒激光功率：100 W；飞秒激光重频：1 Hz-10 MHz；激发波长：325-900 nm；空间分辨率：<10 um；时间分辨率：<17 fs；波长分辨率：<0.3 nm；波长测量范围：350-1100 nm；时间测量范围：8 ns ；变温测量范围：10-300 K。

仪器负责人：付学文

微区瞬态拉曼荧光系统

简介：微区瞬态拉曼荧光系统是将飞秒激光、共聚焦拉曼光谱仪和条纹相机/时间相关单光子计数器集为一体，可进行微米尺度的超快时间分辨的光致荧光光谱和拉曼光谱测量。该装置为自主设计搭建系统，可广泛应用于物质载流子、激子等复合发光动力学以及声子激发态的拉曼光谱测量，是微尺度下能量载流子和声子动力学研究的重要手段。

规格型号：Spirit 飞秒激光+ Odyssey拉曼荧光系统

主要技术参数：

飞秒激光脉宽：<300 fs；飞秒激光功率：100 W；飞秒激光重频：1 Hz-10 MHz；PL激发波长：258-850 nm；空间分辨率：<1 um；时间分辨率：<15 ps；波长分辨率：<0.3 nm；PL测量范围：200-1700 nm；Raman分辨率：<0.3 cm-1；Raman测量范围：10-3000 cm-1；变温测量范围：10-300 K。

仪器负责人：付学文

电子束/聚焦离子束双束系统

简介：电子束/聚焦离子束双束系统是指同时具有聚焦离子束（Focused Ion Beam, FIB）和扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope， SEM）功能的系统。可以实现SEM实时观测FIB微加工过程的功能，把电子束高空间分辨率和离子束精细加工的优势集于一身。其中，FIB是将液态金属源产生的离子束经过加速，在聚焦于样品表面产生二次电子成像，或利用强电流离子束对样品表面刻蚀极进行微纳形貌加工，通常结合化学反应气体反应，有选择性地刻蚀或者沉积材料。

规格型号：Helios 5 UC  DualBeam 系统

主要技术参数：

电子加速电压：0.02~30 kV；二次电子像分辨率：≤ 0.6nm@15kV，≤0.7nm@1kV；；加速电压：0.2~30 kV；离子成像分辨率：≤4nm (30 kV) ；离子加速电压：0.5~30 kV；电子束曝光（EBL）；TEM薄区样品制备；铂沉积、钨沉积。

仪器负责人：付学文

扫描电子显微镜

规格型号：Merlin Compact

生产厂家：卡尔蔡司

主要技术参数：

1、加速电压在0.02~30kV之间可调；2、探针电流在5pA~20nA之间可调；3、扫描透射模式分辨率：0.8nm at 30kV；4、二次电子图像分辨率：0.8nm at 15kV，1.6nm at 1 kV；5、配备牛津公司的X射线能谱仪分辨率：锰的Kɑ线半高宽127eV。

仪器负责人：冯敏

聚焦离子束电子显微镜

规格型号：Helios Nanolab 600i

生产厂家：FEI

主要技术参数： 

◆ 电子束：分辨率@最佳工作距离处0.9nm@15kV(3mm) ；束交叉点处(4mm)1.0nm@15kV 1.6nm@5kV 2.5nm@1kV；加速电压0.2~30kV；最大束流 22nA；最大水平视场 2.3mm@束交叉点；配备电子束减速模式以及二次电子检测器(SED，包含TLD与ETD)。

◆ 离子束：分辨率@束交叉点处4.5nm@30kV(统计测量法)；加速电压0.5~30 kV；束流1pA~65 nA (15孔光阑条)；最大水平视场L：1mm @ 5kV @束交叉点。

仪器负责人：兀伟

激光显微镜拉曼光谱仪+近场扫描光学显微镜系统

规格型号：inVia MV4000

生产厂家：Renishaw，Nanonics

主要技术参数：

1、原子力XY扫描器扫描范围：120 um×120 um；2、近场光学分辨率小于40nm；3、同时获得AFM形貌图像与近场光学图像；4、共聚焦拉曼显微系统，焦长≥300nm，光谱分辨率：≤1.5cm-1，重复性≤0.02 cm-1；5、共聚焦拉曼显微系统具有静态快速光谱测量功能以及快速拉曼成像功能；6、可实现近场光学系统与共聚焦拉曼系统联用，实现针尖增强拉曼散射，同时获得原子力形貌图像和相对应的拉曼光谱图像。

仪器负责人：齐继伟

原子力显微镜

规格型号：MFP-3D Infinity

生产厂家：牛津

主要技术参数：

1、扫描器为XYZ三向全闭环控制，XY扫描器扫描范围：90 um×90 um，Z扫描器扫描范围：15 um；2、闭环噪音(精确定位）：XY≤0.5 nm，Z≤0.25 nm；3、可容纳样品尺寸：直径≥80 mm，高≥10 mm ；4、C-AFM参数：电流精度≤1pA；5、可实现PFM和C-AFM同时扫描；6、具备快速PFM扫描功能。

仪器负责人：薄方

散射式近场光学显微镜

规格型号：neaSNOM

生产厂家：NEASPEC

主要技术参数：

1、原子力最大扫描范围100μm×100μm；2、光学显微镜﹤0.8μm空间分辨率；3、近场成像空间分辨率在20nm以下；4、同时获得AFM和近场光学成像；5、近场中对背景光有充分的压制：信号-背景比﹥90%。

仪器负责人：罗维维

扫描共聚焦拉曼与多场联用系统

规格型号：alpha300RAS

生产厂家：WiTEC

主要技术参数：

1、共聚焦拉曼显微系统（1）焦长≥300nm(2)光谱分辨率：≤1.5cm-1，重复性≤0.02 cm-1（3）CCD探测器每点最短积分时间≤10ms；2、扫描近场光学显微镜：波长范围响应：350-1000nm，探针近场可重复性＞90%，光学分辨率＜90nm；3、AFM联用系统：样品扫描模式范围≥100×100μm。

仪器负责人：刘智波

激光分子束外延系统+准分子激光器

规格型号：LMBE 450A

生产厂家：沈阳科仪

主要技术参数：

1、脉冲激光光源：KrF准分子激光波长248 nm,激光能量300-600 mJ，频率 1-10 Hz；2、监控设备：四极质谱仪和反射高能电子衍射仪可实时监控生长层；3、衬底：3英寸衬底盘，衬底温度最高700℃，高精度温度控制；4、多靶位：四位靶材可实现原位多层结构的制备；5、真空系统：包含机械泵，分子泵和离子泵，生长室真空度10^-7 Pa。

仪器负责人：郑大怀

电子束蒸镀机

规格型号：Ohmiker-60

生产厂家：崇文科技

主要技术参数：

1、电子束蒸镀系统：输出功率为10kW的单电子源以支持高速率金属镀膜；2、快速抽真空：1.2E-07 Torr(25分钟内)，5.8E-07 Torr(1小时内)，8.6E-07 Torr(12小时内)；3、多靶材混合蒸镀，坩埚数：6，坩埚容量：20cc；4、高平整度镀膜,均匀度：±2.61%（3英寸直径的晶圆，500nm镀膜测试）；5、石英加热系统，最高加热温度：250℃。

仪器负责人：蔡卫

飞秒激光器

规格型号：RegA-9000

生产厂家：相干

主要技术参数：

1、重复率 (KHz): 100；2、脉冲能量 (uJ): 5；3、平均功率 (mW): 0.75；4、功率稳定性: < 1%；5、脉冲宽度: <160 fs。

仪器负责人：宋道红

飞秒激光器及时间分辨光谱

规格型号：组装

生产厂家：光谱物理

主要技术参数：

1、种子源：脉宽100飞秒，波长690-1040 nm，重复频率82 MHz；2、放大器：脉宽120飞秒，波长800 nm，重复频率1 kHz，能量1 mJ；3、参量再生放大器：波长300-3000 nm；4、光谱时间分辨率：50 皮秒。

仪器负责人：吴强

多轴激光并行直写光刻系统

规格型号：Microlab 4A-100

生产厂家：苏大维格

主要技术参数：

1、四个坐标轴：X-100mm、y-100mm、Z-30mm、θ-360度连续控制;分辨率：10nm；2、XY轴重复定位精度：200-300nm；3、平台最高运行速度：X、Y， 20mm/s、90度/s；最高光学分辨率：0.3um；4、光源：405nm半导体激光器，50mw。

仪器负责人：李勇男

磁控溅射薄膜沉积系统

规格型号：KJLC-LAB18

生产厂家：Kurt J. Lesker

主要技术参数：

1、真空镀膜室，304 SS；2、真空抽气系统，TMH/U 521C；3、真空测量系统，KJLC/MKS 979；4、检压计，MKS 626A；5、溅射源，Torus 2；6、控制系统，KJLC “C-Ware”控制软件；7、其他配件：电源等

仪器负责人：李勇男